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Scattering losses in multidielectric structures designed for giant field enhancement

Dans cet article qui représente une partie des résultats expérimentaux obtenus en thèse, nous montrons que si l’exaltation du champ accroît les phénomènes d’absorption, il en va évidemment de même pour la diffusion, même si ce phénomène est moins bien connu. En fait les rugosités aux interfaces des empilements de couches minces sont de l’ordre de grandeur de la rugosité du substrat utilisé pour la fabrication. Ce résultat est dû à la technologie DIBS « Dual Ion Beam Sputtering » qui amène les matériaux à répliquer la rugosité du substrat couche après couche à travers l’empilement. Notons qu’il s’agit là d’une réplication et d’une rugosité vue à l’échelle des fréquences optiques, et non pas microscopiques. Ainsi, à cause de la présence simultanée de la diffusion et de l’absorption, tout empilement optimisé (A = 100%) verra son exaltation et son absorption réduites à cause des rugosités ; en d’autres termes, l’exaltation est pompée par la diffusion. Dans cet article, nous donnons quelques premiers éléments sur ces processus qui devraient à terme autoriser une technique alternative pour mesurer les amplifications.


Auteur(s) : A. Lereu, M. Zerrad, C. Ndiaye, F. Lemarchand, and C. Amra
Pages : A412-A416
Année de publication : 2014
Revue : Applied Optics
N° de volume : 53
Type : Article
Mise en ligne par : NDIAYE Césaire Ngor